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半導(dǎo)體器件制造過程中液體成分濃度檢測設(shè)備ChemicAlyzer介紹

發(fā)布時(shí)間:2024-11-22 點(diǎn)擊量:65

半導(dǎo)體器件制造過程中液體成分濃度檢測設(shè)備ChemicAlyzer介紹

ChemicAlyzer是一款利用光吸收原理并采用在線設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)連續(xù)測量的液體成分濃度計(jì)。自 1990 年作為紅外液體成分濃度計(jì)的先驅(qū)開始業(yè)務(wù)以來,我們利用豐富的專業(yè)知識和技術(shù),響應(yīng)不斷發(fā)展的半導(dǎo)體器件制造過程中的測量需求,提高質(zhì)量和化學(xué)濃度。管理。
我們將通過靈活應(yīng)對工藝和特殊化學(xué)溶液,并通過高精度化學(xué)濃度測量“滿足一步的測量需求",繼續(xù)為制造工藝的優(yōu)化做出貢獻(xiàn)。

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  • 高質(zhì)量

    我們?yōu)槊總€(gè)測量目標(biāo)選擇最佳波長,并為每個(gè)設(shè)備創(chuàng)建校準(zhǔn)曲線。
    我們提供穩(wěn)定的產(chǎn)品,機(jī)器變化很小,并通過了檢驗(yàn)測試。

  • 02

    高性能

    ChemicAlyzer 是一款高性能濃度計(jì),具有出色的響應(yīng)和分辨率。
    可以控制濃度,而不會遺漏高度分解成分的哪怕最輕微的變化。

  • 03

    高耐用性

    有助于降低長期運(yùn)行成本。
    十多年來,我們一直持續(xù)提供支持,并擁有客戶使用我們產(chǎn)品的記錄。

倉敷紡績的成分濃度計(jì)應(yīng)用于以下行業(yè)!

  • 晶圓制造流程

  • 半導(dǎo)體制造工藝


    • 液晶面板制造流程

    • 板材制造流程

    • 晶體諧振器制造工藝

  • ?抗蝕劑剝離液的濃度控制

  • ?再生藥液的濃度管理

  • ?后處理用化學(xué)溶液的濃度控制

  • ?酸堿清洗液的濃度控制

  • ?氧化膜/氮化膜蝕刻液的濃度控制

  • ?其他特殊化學(xué)溶液的濃度控制

它還用于廣泛的行業(yè),包括電池材料制造過程以及清酒和醋的發(fā)酵測量。
我們的高性能測量技術(shù)得到了高度評價(jià),在日本、東亞和美國已銷售超過3,000臺!

基本規(guī)格

測量方法近紅外透射光譜
最短測量時(shí)間2秒
測量值輸出DC4-20mA
輸入信號晶體管電流驅(qū)動輸入(測量、校準(zhǔn)、預(yù)熱結(jié)束等)
輸出信號集電極開路輸出(READY、BUSY、設(shè)備錯(cuò)誤、測量、成功、上下限報(bào)警等)
接液部件材料石英池規(guī)格:PFA、PTFE、石英(池)、全氟(O 型圈)
藍(lán)寶石池規(guī)格:PFA、PTFE、藍(lán)寶石(池)、Kalrez(O 型圈)
最大工作壓力0.2MPa
配管直徑IN: Φ3 × Φ2 OUT: Φ4 × Φ3 (mm) 包含每根 1m 管

化學(xué)液體清單

主要用途成分1成分2成分3評論通用名推薦高精度型需要特殊波長
半導(dǎo)體雙氧水

APM、SC1

高頻





高頻

氫氟酸
H 2 SO 4雙氧水

SPM

高頻雙氧水

氟甲基丙烯酸甲酯

高頻雙氧水
氟甲基丙烯酸甲酯
高頻鹽酸


高頻H2SiF6



人機(jī)交互雙氧水

HPM、SC2
氫氧化鉀雙氧水




氫氧化鈉雙氧水




H 3 PO 4





高頻NH4F



高頻硝酸3



高頻雙氧水CH3COOH


液晶四甲基氫氧化銨

開發(fā)商


H 3 PO 4硝酸3CH3COOH蝕刻

H 2 SO 4雙氧水蝕刻
溶劑抗剝落
其他的異丙醇







有機(jī)溶劑中微量水分

CH3COOHC2H5OH


C2H5OH葡萄糖
日本清酒

*由于采用光學(xué)方法,因此無法測量不透光的不透明化學(xué)溶液